고무 부품 생산 및 가공에서 클로로프렌 고무(CR)는 탁월한 내후성 및 내유성으로 인해 씰 및 댐핑 부품 제조에 널리 사용됩니다. 그러나 CR의 높은 고유 인성으로 인해 플래시 제거에 지속적인 어려움이 발생하며, 이는 오랫동안 많은 제조업체의 골칫거리였습니다. 기존의 커터를 이용한 수동 트리밍은 시간이 많이 소요되고 노동 집약적입니다. 이로 인해 인건비가 지속적으로 높아지고, 제품 표면에 흠집이 생길 위험이 크며, 불량률 관리가 어려워 생산 능력 확대를 저해하는 병목 현상이 발생합니다.
STMC는 CR 제품의 금형 분할선 및 모서리 버 제거라는 업계의 일반적인 과제를 해결하기 위해 검증된 극저온 디플래싱 솔루션을 제공합니다. 극저온 디플래싱의 핵심 원리는 저온 조건에서 고무 제품 표면의 플래시를 빠르게 취성화하는 것입니다. 그런 다음 고속 미디어 블라스팅을 통해 얇은 플래시를 파쇄하여 자동 분리를 가능하게 하며, 동시에 고무 기판의 원래 성능과 외관을 완벽하게 보존합니다.
기존의 수동 트리밍 방식과 비교했을 때, 이 공정은 탁월한 장점을 제공합니다. 특히 고강도 CR 클로로프렌 고무의 경우, 미세한 버(burr)와 돌출된 금형 분할선을 한 번의 공정으로 완벽하게 제거할 수 있어, 커터를 사용한 수동 트리밍의 비효율성을 해소합니다. 또한 대량 자동 가공을 지원하여 생산 주기를 크게 단축하고 제품 불량률을 꾸준히 감소시킵니다. 극저온 디플래싱으로 처리된 CR 씰은 매끄럽고 깔끔한 윤곽을 가지며, 일관성이 크게 향상되어 표면 품질 측면에서 시장 경쟁력을 강화합니다.
STMC는 25년 이상 극저온 디플래싱 산업을 전문으로 해왔으며, 고무, 플라스틱 및 합금 가공품의 버 제거 기술에 주력해 왔습니다. 당사의 장비 및 공정 솔루션은 전 세계 수천 개의 제조업체에 서비스를 제공하고 있으며, 제품은 20개국 이상에 수출되고 있습니다. 극저온 디플래싱 공정은 클로로프렌 고무 외에도 EPDM, TPU, 실리콘, 아연-알루미늄-마그네슘 다이캐스팅, 플라스틱 사출 성형품 등 다양한 소재로 제작된 가공품의 플래시 제거에 적용할 수 있습니다.
고무 제품의 버(burr) 및 분할선 제거 시 낮은 효율과 높은 불량률로 어려움을 겪고 계시다면, 극저온 디플래싱을 이용한 자동 플래시 제거 성능을 직접 확인해 보실 수 있도록 샘플을 보내주시기 바랍니다.
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게시 시간: 2026년 8월 4일
